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平面研磨的运动轨迹及原理

研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗

2018年6月1日  摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型ꎬ通过Matlab进行了运动学仿真ꎬ对两种驱动方式和2012年6月23日  基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 星级： 4 页 行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹和运动参数的研究行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 机械工程论文

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X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - nwpu.cn

2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初 推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考察区域等 UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术

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摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动方式对研磨 ...

2023年12月24日  为了提高摆动固定磨料平面研磨(SFAPL)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。 根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的 2015年4月16日  可以把研抛过程的轨迹曲线分 为两类: 工件上一定点相对于研磨盘的运动轨迹 2 轨迹分析 平面研抛轨迹曲线直接影响研抛的质量与效 第 4 期 吴宏基等: 行星式平面研磨机研 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 豆丁网

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基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验研究 ...

2023年12月8日  为了在自由磨料研磨过程中实现 MPCVD（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。 这项研究的关键 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X-Y联动轨 X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术

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行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 百度学术

摘要：. 分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理. 从节点,节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下工件与研磨盘相对于假想系杆的两个绕定轴的回转运动,根据其速比 本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL-802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术

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平面研磨加工机理研究——刘清 著--机械工业出版社

第4章在分析双平面研磨加工原理的基础上，对工件的受力情况进行 了分析和仿真，同时运用ADAMS软件进行了研磨轨迹仿真分析。第5章在第4章分析得出的优化工艺参数基础上，采用滑模控制策略开展了对比研磨试验，验证了双平面研磨 1.1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构，如图1 所示，被加工件放在行星轮孔内，行星轮除绕太阳轮中心公转外，还绕自己中心旋转。由于行星轮的自转使工件中心与研磨盘中心之间的距离随时间周期性变化，故该行星式 ...行星式双平面多工件研磨盘设计 - 百度文库

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平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 - 百度文库

平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化-Speed）、外齿圈转速Speed）、上／下研磨盘转速翻P（Upper／PlateSpeed）。 修盘器运动速度包括：围绕中心齿轮的公转、修盘器相对自身中心的自转。修盘器 结构如图，它利用修盘器上分布的金刚石磨片，通过 修盘 ...2015年12月11日  本文对平面数控研磨机床进行了如下内容的研究：（1）建立了基于工件摩擦自转式的双面研磨数控研磨机床模型，用ADAMS软件分别分析了上研磨盘、下研磨盘以及工件三者之间的运动轨迹，为研磨参数的选取以及加工方法的优化打下了理论基础。平面双面研磨装置及力位控制 - 豆丁网

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阀门研磨的原理及工具的发展简述 - 调节阀网

2011年11月1日  调节阀的密封是靠阀座与阀瓣实现的。因此，阀门中阀瓣与阀座的加工是阀门生产中的关键。为了确保阀门的密封性能，要求阀座与阀瓣在加工中具有较高的表面粗糙度和平面度，因此需要对其密封面进行研磨。研磨加工的质量合效率，将直接影响阀门的质量和生产效率。2011年12月23日  要正确处理好研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中，一般要求：①工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近；②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损；③运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件研磨工艺原理 - 豆丁网

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行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹 - 百度文库

4） “8 ” 字形研磨 运动轨迹。适用于小平面工件的研磨和平板类工件的修 整， 能使相互研磨的平面介质均匀接触 ， 并使研具均匀地 磨损。 1． 1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构 ， 如图 1 所示， ， 被加工件放在行星轮孔内2017年3月10日  主要用于工件内、外圆柱面，平面及圆锥面的研磨。模具零件研磨时常用。 3）机械研磨：工件、研具的运动均采用机械运动。加工质量靠机械设备保证，工作效率比较高。但只能适用于表面形状不太复杂等零件的研磨。 （2）按研磨剂的使用条件什么是研磨？它的基本原理是什么？

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研磨_百度百科

研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。加工精度可达IT5～IT01，表面粗 摘要： 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X-Y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究.对试件研磨表面 X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术

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行星式双面研磨轨迹均匀性研究_百度文库

在双面研磨轨迹均匀性研究方面,磨粒相对于工件的运动轨迹 均匀性和工件相对于研磨盘的轨迹均匀性的研究对改善工件的加工精 ... 行星式双面研磨的加工原理如图1所示,放置在游星轮内的工件随游星轮一起在太阳轮和齿圈的差动作用下做行星运动, ...研磨盘 平面度 是研磨的基准，是得到精密工件平面的保证。 在研磨的过程中，研磨盘的平面度会下降，主要原因研磨盘的内外 线速度 不同，磨损不一致造成。 研磨盘需定期修整平面。修整的方法有两种：1是采用基准平面电镀 金刚石 修 平面研磨机 - 百度百科

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基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析.PDF ...

2017年8月5日  分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理，以节点、节圆入手，将复杂的研抛运动转化为在 ... 率为纽带，将研磨抛光的几何分析与提高工件 表面的加工质量联系起来，得出了优化的轨迹曲线及运动参数。 关键词：平面研密机轨迹曲线 ...2015年1月13日  第38卷第6期机械工程学报v。1．38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要：分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理，以节点、节圆入手，将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动，分析了 ...基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 道客巴巴

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研磨加工的运动特点及其运动轨迹 - 百度文库

不论哪一种轨迹的研磨运动 ，其共同特点是工件的被加工面与研具工作面做相密合的平行运动。这样的研磨运动既能获得比较理想的研磨效果，又能保持研具的均匀磨损，提高研具的耐用度。圆柱和圆锥体工件的研磨加工，往往采用手工与机械配合的 ...2024年8月12日  资源浏览阅读123次。"行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 (2002年) - 大连理工大学学报 - 第42卷第4期 - 文章编号:1000-8608(2002)04-0451-05" 这篇论文详细探讨了行星式平面研磨机在精密加工中的运动轨迹分析。行星式平面研磨机在精密和超精密 ...行星式平面研磨机研抛运动轨迹解析与类型 - CSDN文库

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硬质合金刀片平面研磨机的工艺介绍_机床商务网

2011年1月13日  提要：本文在分析国内各种硬质合金刀片平面研磨机的研磨运动及结构特点基础上、介绍作者从生产实际出发，设计出的一种新型偏心运动刀片平面研磨机。该机不仅结构简单、合理，使用耐久、可靠，而且研磨效果好。 一、前言 机械研磨法是目前国内外加工硬质合金刀片上、下平面的一种主要 ...2018年5月12日  摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

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技术 球磨机工作原理及研磨体运动分析_物料

2019年5月15日  技术 球磨机工作原理及研磨体运动分析 2019-05-15 15:54 【广告】 一、 球磨机工作原理： 球磨机的主要工作部分是一个装在两个大型轴承上并水平放置的回转圆筒，筒体用隔仓板分成几个仓室，在各仓内装一定形状和大小的研磨体。研磨体一般为 ...2019年12月1日  第4章在分析双平面研磨加工原理的基础上，对工件的受力情况进行了分析和仿真，同时运用ADAMS软件进行了研磨轨迹仿真分析。 ... 2．4 基于单颗磨料运动的研磨轨迹 仿真分析 2．4．1 初始点向径对研磨轨迹曲线的影响 2．4．2 初始相位角对研磨 ...平面研磨加工机理研究 - 读书网dushu

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机械毕业设计-平面双面研磨机构的设计 - 豆丁网

2013年12月23日  （3）螺旋形研磨运动轨迹。主要用于圆片形或圆柱形工件端平面研磨，能获得较高的平面度和较小的表面粗糙度。（4）“8”字形研磨运动轨迹。适用于平板类工件的修整和小平面工件的研磨，能使相互研磨的平面介质均匀接触，并且研具均匀地磨损。2015年1月20日  超精密双面抛光的加工原理 超精密双面抛光加工是应用化学机械抛光(CMP)技术，靠工件、磨粒、抛光液及抛光盘的力学作用，在工件的抛光过程中，产生局部的高温和高压，从而使直接的物理化学变化直接发生在工件与磨 超精密双面抛光的加工原理_海德研磨

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摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动方式对研磨 ...

2023年12月24日  根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的运动学模型。 采用数值模拟方法研究了不同摆动模式下工件表面的磨粒轨迹和ASD。 此外，应用区域网格划分和统计方法对模拟结果进行可视化，并采用不均匀系数（NUC）和均方根（rms）定量评估研 双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 3 张彦 , 李军 , 朱永伟 , 高平 , 李标 , 蒋毕亮 , 左敦稳 279 光 学 技 术 第 37 卷 ... 法对双面抛光 进行受力分析 ,利用力与力矩的关系建立运动轨迹 的力学模型 ,根据力矩平衡原理 ,作出轨迹的数学方 程表达式 ,从表达式 ...双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 - 百度文库

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研磨处理 - 百度百科

研磨处理是表面处理技术中非常重要的一种子工艺，在工业中有着广泛的应用，研磨处理是指利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆 7.1.2.1基本假设 (1) 当磨机在正常工作时，研磨体在筒体 内按所在位置的运动轨迹只有两种：一种 是一层层地以筒体横断面几何中心为圆心 ，按同心圆弧轨迹随着筒体回转作向上运 动；另一种是一层层地按抛物线轨迹降落 下来； (2) 研磨体与筒壁间及研磨体层第七章 球磨机 1球磨机工作原理及研磨体运动分析 - 百度文库

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硬脆材料双面研磨抛光机的设计_百度文库

本文通过对平面研磨机构多种运动方式的分析，以及研磨精度要求，并结合现有研 磨机，从而设计出一种新型的行星式双面平面研磨机构，并对其运动轨迹做了具体研究。 这种研磨方式不仅解决了 传 统 研 磨 存 在 加 工 效 率 低 、 加 工 成 本 高 、 加 ...第二章 平面研磨轨迹分析与设计 4 2.1平面研磨的运动条件及工作原理 4 2.1.1研磨运动条件 4 2.1.2圆柱研磨机理 4 2.2平面研磨轨迹的分析 5 2.2.1 研磨轨迹均匀性的研究方法 5 2.2.2单面研磨抛光 5 2.2.3双面研磨 13 2.3采用节圆方式对行星式研磨轨迹具体分析 15L190-平面双面研磨机构的设计 [含Proe三维图]-机械机电-龙图网

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平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 - 道客巴巴

2012年7月30日  2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集November2007平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化卢万佳李维民杨华（深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳518035）摘要：为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质，本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟，通过统计修盘器磨片相对研磨盘所划 ...

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